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近日，华中科技大学刘世元教授团队成功打破国外垄断，成功研发中国首款完全自主可控的OPC芯片光刻软件。

没有它，即使有光刻机，也没有办法保证高良率、大批量、低成本的制造芯片！

目前，全球OPC工具软件市场被ASML-Brion、Synopsys、Mentor等三家美国公司垄断。

光刻机系统巨头ASML

“从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造整个环节被国外卡脖子的问题！”刘世元接受湖北卫视采访时表示。

宇微光学创始人刘世元

刘世元又动情地表示,“希望自己的研究成果能够快速应用到实际生产中，转化成产品，为中国芯片制造做出贡献。今后，他还将带领团队和由他所创办的宇微光学软件有限公司加快产品推广步伐，加快进入国内外芯片制造市场，力争在全球芯片产业链中占有一席之地！”

光学邻近效应

OPC芯片光刻软件，即光学邻近校正（Optical Proximity Correction）软件，是用于增强芯片光刻效果的一种软件。目的是为了保证芯片光刻过程中图形的边缘得到完整的刻蚀。

光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，但是由于光学邻近效应的存在，原始版图通过光线照射到硅片表面成像时，会发生一定的失真，如出现线宽不均、线端缩短、边角圆化等光学邻近效 应，因此需要采用一些技术手段校正。通常是通过改变硅片表面的曝光强度，最终使得曝光 后硅片上轮廓与期望得到的目标轮廓相似。

光学邻近效应

计算光刻流程

延伸阅读

华中科技大学（Huazhong University of Science and Technology），简称华科大 ，位于湖北省武汉市，是中华人民共和国教育部直属的综合性研究型全国重点大学、国家“双一流” “985工程”“211工程”、“强基计划”“111计划”等计划成员。

有志报考的同学，要努力哦！

刘世元教授简介

刘世元教授

刘世元（Liu Shiyuan，Professor），机械科学与工程学院、光学与电子信息学院双聘教授，华中科技大学集成电路测量装备研究中心主任，同时也是光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。他早年师从著名机械学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位。

主要从事纳米光学测量技术与仪器、集成电路IC制造在线测量技术与装备、光刻成像理论与计算光刻、新型椭偏仪研制与光电材料表征测量等方面的研究工作，致力于光学工程、精密机械、仪器科学、集成电路、光电材料等学科的交叉融合，强调基础研究与产业应用并重。

参考资料：中国光谷融媒体中心、百度百科——华中科技大学词条、CNKI中国知网、华中科技大学机械科学与工程学院

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